摘要:
以磺胺甲恶唑(SMX)为研究对象, 采用掺硼金刚石薄膜(BDD)电极电化学氧化法, 研究电流密度和电解质溶液对其降解效果的影响; 用循环伏安扫描和GC-MS测定中间产物, 提出SMX降解的机理。结果表明, BDD电化学氧化SMX的最佳电流密度为20 mA/cm2, 最适电解质溶液为0.05 mol/L Na2SO4, 此外, 可在50分钟内实现100%的SMX去除, 且去除过程满足一级反应动力学方程。低电流密度下, SMX可发生直接电化学氧化, 通过苯胺基失去电子生成二聚物; 高电流密度下, SMX以间接?OH氧化为主, 可能的降解途径有两条, 分别为?OH攻击导致S-N键断裂和?OH攻击杂环使得苯环开裂, 生成小分子羧酸, 最终矿化成CO2, H2O以及无机离子。
蒋欢, 王婷, 郑彤, 任艳粉, 倪晋仁. 水体中磺胺甲恶唑在BDD电极体系中的电化学氧化机理[J]. 北京大学学报自然科学版, 2019, 55(3): 482-488.
JIANG Huan, WANG Ting, ZHENG Tong, REN Yanfen, Ni Jinren. Electrochemical Oxidation Mechanism of Sulfamethoxazole in BDD Electrode System[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Pekinensis, 2019, 55(3): 482-488.