摘要: 利用热丝增强化学气相沉积法,在镀Ni的Si基片上成功地生长大面积取向碳纳米管膜,并研究了其场发射性质。研究表明,碳纳米管膜的场发射Fowler-Nordheim曲线上存在一转折点Es(“饱和”场强),低场区域(E<Es)的F-N曲线斜率明显高于高场(E>Es)区域。实验证实,低场区域的场放大系数β与极间距d 成正比,Es与极间距d 成反比,它们可用双区域场模型唯像地解释。讨论了高场区域场发射电流“饱和”(变化趋缓)的可能机制。
中图分类号:
葛颂, 冯孙齐, 俞大鹏, 张广宇, 刘双. 取向碳纳米管膜的大面积制备及其场发射性能的研究[J]. 北京大学学报(自然科学版).
GE Song,FENG Sunqi,YU Dapeng,ZHANG Guangyu,LIU Shuang. Synthesis and Field Emission Study of Large-Scaled Aligned Carbon Nanotube Films[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Pekinensis.